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第101节（第1页）

换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。

盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”

当下有?人反驳：“都是?纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了?！”

难度多大？

最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不?能超过一根头发的直径。

而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

全球只有?德国蔡司这家传承三?代?以上的企业才造得出这种反射镜。

当然，反射镜不?对华出口。

盛明安：“不?用担忧反射镜能不?能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

“数据、模型，不?管失败成功，统统记录下来。”

盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不?容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。

他胸有?成竹，心有?沟壑。

他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个?人退怯、不?自信的心。

“杜颂，打开你的modelica先进?行?初步的超精密激光器建模仿真。”

modelica是?一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

杜颂：“已在创建。”

他领着自己小组成员低头忙碌。

“雷客，你调整一下光路结构。”

“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果?计算查找表修正光与图案。

盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个?技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进?的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个?问题。

可盛明安不?清楚。

他虽不?愿用前世记忆盗窃他人成果?提前制造出国产光刻机，可前世是?他完美解决euv产能低的问题，因?此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。

以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。

***

15年5月份左右，国际半导体发生了?一件大事。

asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！

此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不?休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不?断，基本都是?讨论asml这一举措将带来怎么?的影响。

【光刻巨人：asml真正的崛起！】

国内科技网对asml的新闻标题被搬到国内电子发烧友论坛，论坛主搬来这标题就已经表明了?他对未来全球半导体地位的划分认可。

【如标题所说，从今以后，asml是?唯一的光刻巨人！】

【佳能、尼康的时?代?消失了?，光刻机百花齐放共竞争的时?代?一去不?复返，将来只有?asml一骑绝尘的身影！】

【虽然不?想承认，但欧美又在一个?重要的领域里实现了?科技霸权！】

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